دیسک های مک وی دی

دیسک‌های SIKAIDA Mcvd مواد مصرفی هسته‌ای برای راکتورهای MCVD هستند که قادر به مقاومت در برابر محیط‌های خورنده با دمای بالا و حفظ ثبات ابعادی و توزیع یکنواخت گرما در طول رسوب طولانی‌مدت هستند. با خلوص ≥99.99٪، پایداری حرارتی عالی و دقت بالا را ارائه می دهند. درمان های سطحی ویژه آلودگی و چسبندگی فیلم را کاهش می دهد، با اکثر راکتورها سازگار است، نصب آن آسان است و عمر طولانی دارد.

مواد و پردازش: دیسک‌های Mcvd SIKAIDA از گرافیت با خلوص بالا فشرده به صورت ایزواستاتیک با خلوص ≥99.99% استفاده می‌کنند که با ماشینکاری دقیق با استفاده از مراکز ماشینکاری CNC و سایر تجهیزات انجام می‌شود. سطح تحت یک پوشش با خلوص بالا یا عملیات ضد اکسیداسیون قرار می گیرد که باعث می شود به طور گسترده در تولید فیبر نوری و صنایع رسوب لایه نازک نیمه هادی استفاده شود.

مزایای اصلی

1. خلوص بالا و آلودگی کم: دیسک‌های McVd از گرافیت با خلوص 99.99 درصد یا بالاتر استفاده می‌کنند که در دماهای بالا خالص می‌شود، به طور قابل توجهی خطر آلودگی یون‌های فلزی را کاهش می‌دهد و فرآیندها و محصولات پایدار و واجد شرایط را تضمین می‌کند.

2. پایداری حرارتی عالی: ضریب انبساط حرارتی پایین و مقاومت در برابر شوک حرارتی قوی تضمین می‌کند که هیچ ترک خوردگی یا تغییر شکلی در چرخه دمای بالا، حفظ دقت ابعادی پایدار و برآورده کردن الزامات دمای بالا MCVD وجود ندارد.

3. توزیع یکنواخت گرما: رسانایی حرارتی بالا پاسخ دما و توزیع یکنواخت را امکان پذیر می کند، از تشکیل یک فیلم رسوب یکنواخت و متراکم پشتیبانی می کند و کیفیت رسوب را بهبود می بخشد.

4. دقت فوق العاده بالا: ماشینکاری CNC دقیق به شدت صافی، موازی بودن، و تحمل موقعیت سوراخ را کنترل می کند، به تطابق کامل با راکتور دست می یابد و عملکرد پایدار طولانی مدت تجهیزات را تضمین می کند.

5. عمر طولانی: درمان سطح ویژه ضد اکسیداسیون و ضد خوردگی عمر سرویس را در محیط های خورنده افزایش می دهد و هزینه های عملیاتی کلی را برای مشتریان کاهش می دهد.

مشخصات و خدمات سفارشی سازی

1. نمرات گرافیت

پوشش گرافیت های چندگانه: گرافیت با خلوص بالا ایزواستاتیک (ISO-88، ISO-63، سری HPG)، گرافیت قالب گیری شده با خلوص بالا (سری EDM، MG)، و گرافیت پوشش داده شده ویژه (پوشش SiC، PyC، Al2O3)، مناسب برای کاربردهای مختلف.

2. فرآیندهای تصفیه سطحی

ارائه درمان های سطحی متعدد: تصفیه هالوژن در دمای بالا، پوشش محافظ CVD، پرداخت دقیق، و تراکم اشباع رزین/آسفالت، قابل انتخاب برای افزایش عملکرد محصول در صورت نیاز.

3. ابعاد کلیدی

تحمل ابعادی: استاندارد ± 0.05 میلی متر (قابل تنظیم ± 0.02 میلی متر)؛ زبری سطح Ra: استاندارد 0.8μm (≤0.4μm سطح فوق العاده صاف موجود است).

سفارش و خدمات

دیسک‌های Mcvd از سفارشی‌سازی نقشه‌ها و نمونه‌های مختلف، از جمله STP و DXF پشتیبانی می‌کنند. تحویل محصولات استاندارد 2-3 هفته طول می کشد، نمونه های سفارشی 4-6 هفته طول می کشد. گواهی ISO9001:2015، گزارش های تست شخص ثالث در دسترس است و روش های پرداخت شامل T/T و L/C می باشد.

برنامه های کاربردی محصول

دیسک‌های Mcvd کاربردهای گسترده‌ای دارند، از جمله فرآیندهای رسوب‌گذاری در تولید پریفرم فیبر نوری، رسوب لایه نازک نیمه هادی، اپیتاکسی MOCVD، رشد شیشه و کریستال ویژه، تحقیقات علمی، و انرژی جدید فتوولتائیک.

سوالات متداول

Q1: شاخص های اصلی عملکرد دیسک های گرافیت Mcvd چیست؟

A1: شاخص های اصلی عبارتند از: خلوص گرافیت (معمولا ≥99.99٪)، محتوای خاکستر، چگالی ظاهری، مقاومت فشاری، ضریب انبساط حرارتی، هدایت حرارتی، و دقت ابعادی و زبری سطح پس از پردازش. این شاخص‌ها به طور جمعی پایداری، عمر مفید و تأثیر آن را بر کیفیت فیلم رسوب‌شده در محیط‌های خورنده با دمای بالا تعیین می‌کنند.

Q2: عمر مفید دیسک رسوب چقدر است؟ چگونه می توان عمر مفید آن را افزایش داد؟

A2: عمر مفید بستگی به شرایط فرآیند خاص (دما، اتمسفر، خورندگی و غیره) دارد که معمولاً از چندین تا ده‌ها چرخه فرآیند متغیر است. برای افزایش طول عمر، توصیه می کنیم: 1) انتخاب یک نوع پوشش مناسب برای جو فرآیند (به عنوان مثال، پوشش SiC برای محیط های بسیار اکسید کننده). 2) پیروی از مراحل نصب، استفاده و خنک سازی مناسب؛ 3) مرتباً سطح را تمیز و نگهداری کنید تا از آسیب مکانیکی جلوگیری شود.

Q3: آیا از سفارشی سازی کامل بر اساس نقشه های راکتور ما پشتیبانی می کنید؟

A3: بله، ما خدمات سفارشی سازی جامع را ارائه می دهیم. می‌توانید نقشه‌های رابط رآکتور، پروفایل‌های دمای فرآیند و الزامات جو را ارائه دهید. بر این اساس، ما مواد را انتخاب می‌کنیم، ساختار را طراحی می‌کنیم و ماشین‌کاری دقیق انجام می‌دهیم تا اطمینان حاصل شود که صفحه رسوب‌گذاری کاملاً با تجهیزات شما مطابقت دارد و عملکرد فرآیند را بهینه می‌کند.